co2et是什么基团

中文名称: (三甲基硅基)乙酸乙酯

中文同义词: 乙基(三甲基硅基)乙酸乙基三甲基甲硅烷醋酸盐三甲基硅基乙酸乙酯(三甲基硅基)醋酸乙酯三甲基硅乙酸乙酯(三甲基硅基)醋酸乙酯, 98+%

CBNumber: CB7271085

August 8, 2003收录于美国化学库，要的话你留下邮箱我发给你PDF原文

分子式: C7H16O2Si

分子量: 160.29

MOL File: 4071-88-9.mol

沸点 : 156-159 °C(lit.)

密度 : 0.876 g/mL at 25 °C(lit.)

折射率 : n20/D 1.415(lit.)

闪点 : 95 °F

储存条件 : Flammables area

水溶解性 : Decomposition

敏感性 : Moisture Sensitive

BRN : 1755902

CAS 数据库: 4071-88-9(CAS DataBase Reference)

NIST化学物质信息: Ethyl (trimethylsilyl)acetate(4071-88-9)

安全信息

危险类别码 : 10

安全说明 : 16

危险品运输编号 : UN 3272 3/PG 3

WGK Germany : 3

F : 10-21

TSCA : Yes

HazardClass : 3

PackingGroup : III

三甲基硅基团（简写：TMS），是有机化学中的一种官能团。该基团由三个甲基连线于一个硅原子组成，即：[_Si(CH3)3]，硅原子可连于分子中的其他基团。这个基团的特点是具有一定的化学惰性且具有较大的分子体积，这些特性使得其在化学中具有广泛的套用。

一个三甲基硅基再连线一个甲基上可形成四甲基硅烷，同样简写为TMS。

带有三甲基硅基的化合物在自然界并不常见，化学家常使用一种三甲基硅化试剂进行一些非挥发化合物的衍生化，如一些醇、苯酚或羧酸类化合物。这类衍生化反应利用三甲基硅基取代化合物中羟基上的氢原子，以这种方式可在分子上引入三甲基硅氧基团[_O-Si(CH3)3]，反应中的常用试剂如：三甲基氯硅烷和二(三甲基硅基)醯胺。三甲基硅基团在分子上的引入，通常使分子具有更易挥发的倾向，从而分子更易被气相色谱法或质谱所检测。如菜籽固醇相关文献中就提及了其三甲基硅衍生化的反应。

一、金属表面硅烷化处理的机理：

硅烷是一类含硅基的有机/无机杂化物，其基本分子式为：R'(CH2)nSi(OR)3。其中OR是可水解的基团，R'是有机官能团。

硅烷在水溶液中通常以水解的形式存在：

-Si(OR)3+H2OSi(OH)3+3ROH

硅烷水解后通过其SiOH基团与金属表面的MeOH基团(Me表示金属)的缩水反应而快速吸附于金属表面。

SiOH+MeOH=SiOMe+H2O

一方面硅烷在金属界面上形成Si-O-Me共价键。一般来说，共价键间的作用力可达700kJ/tool，硅烷与金属之间的结合是非常牢固的；另一方面，剩余的硅烷分子通过SiOH基团之间的缩聚反应在金属表面形成具有Si-O-Si三维网状结构的硅烷膜[2]。

该硅烷膜在烘干过程中和后道的电泳漆或喷粉通过交联反应结合在一起，形成牢固的化学键。这样，基材、硅烷和油漆之间可以通过化学键形成稳固的膜层结构。

二、金属表面硅烷处理的特点

(1)硅烷处理中不含锌、镍等有害重金属及其它有害成分。镍已经被证实对人体危害较大，世界卫生组织(WHO)规定，2016年后镍需达到零排放，要求磷化废水、磷化蒸气、磷化打磨粉尘中不得含镍。

(2)硅烷处理是无渣的。渣处理成本为零，减少设备维护成本。

磷化渣是传统磷化反应的必然伴生物。比如一条使用冷轧板的汽车生产线，每处理1辆车(以100m2计)，就会产生约600g含水率为50%的磷化渣，一条10万辆车的生产线每年产生的磷化渣就有60t。

(3)不需要亚硝酸盐促进剂，从而避免了亚硝酸盐及其分解产物对人体的危害。

(4)产品消耗量低，仅是磷化的5%～10%。

(5)硅烷处理没有表调、钝化等工艺过程，较少的生产步骤和较短的处理时间有助于提高工厂的产能，可缩短新建生产线，节约设备投资和占地面积。

(6)常温可行，节约能源。硅烷槽液不需要加温，传统磷化一般需要35～55℃。

(7)与现有设备工艺不冲突，无需设备改造而可直接替换磷化；与原有涂装处理工艺相容，能与目前使用的各类油漆和粉末涂装相匹配。

三、工艺流程

根据硅烷化的用途及处理板材不同，分为不同的工艺流程。它的处理工艺，比以前的磷化，要求很严格。

(1)铁件、镀锌件

预脱脂——脱脂——水清洗——水清洗——硅烷化——烘干或晾干——后处理

(2) 铝件

预脱脂——脱脂——水洗——水洗——出光——水洗——硅烷化——烘干或晾干——后处理

四、常用的硅烷试剂

BSA N,O-Bis(trimethylsiyl)acetamide N,O-双(三甲基硅烷基)乙酰胺

BSTFA Bis(trimethylsilyl)trifluoroacetamide 双(三甲基硅烷基)三氟乙酰胺DMDCS Dimethyldichlorosilane 二甲基二氯硅烷HMDS 1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane 1,1,1,3,3,3,-六甲基二硅烷MTBSTFA N-(ter-Butyldimethylsilyl)-N-methyltrifluoroacetamide N-(特丁基二甲基硅烷基)-N-甲基三氟乙酰胺TBDMCS t-Butyldimethyl chlorosilane 特丁基二甲基氯硅烷TFA Trifluoroacetic acid 三氟乙酸TMCS Trimethylchlorosilane 三甲基氯硅烷TMSDEA Trimethylsilyldiethylamine 三甲基硅烷基二乙胺TMSI Trimethylsilylimidazole 三甲基硅烷咪唑