硫乙醇酸盐流体培养基灭菌气味是什么
一、作用:硫乙醇酸盐流体培养基主要用于培养需氧、厌氧和微需氧微生物,是培养厌氧菌的首选培养基。该培养基在药典中一直被用作无菌检查培养基,具有重要的作用。
二、原理:硫乙醇酸盐流体培养基的主要成分:胰酪蛋白胨、酵母浸出粉、葡萄糖、氯化钠、 L-胱氨酸(半胱氨酸盐酸盐)、硫乙醇酸钠(硫乙醇酸 0.6 mL)、琼脂、刃天青等。
其中胰酪蛋白胨、酵母浸出粉提供氮源以及供合成蛋白质必须的各种氨基酸和生长因子,葡萄糖提供碳源及能源;氯化钠维持均衡的渗透压;胱氨酸、硫乙醇酸盐、葡萄糖均可降低氧化还原电位的作用,防止过氧化物的积累对某些菌产生毒性,有利于厌氧菌的生长,另外,硫乙醇酸盐有钝化含砷和汞类药物及其他金属防腐剂的有害作用;刃天青作为氧化还原的指示剂,氧化时呈红色,以此指示培养基的氧化还原电位;琼脂可以防止液体对流,即防止二氧化碳、氧气和还原产物的扩散,有利于厌氧环境的形成。
三、硫乙醇酸盐流体培养基的特点:从硫乙醇酸盐流体培养基的成分分析可以总结出该培养基的特点主要有:
含有较全面的营养,能满足绝大多数细菌的营养需求;
培养基的不同深度上层、中层、下层部位可以分别模拟提供有氧、弱氧至无氧不同氧含量的梯度环境,使厌氧细菌、兼性厌氧细菌、好氧菌均可在此培养基中生长;
成份相对简单,制作简便;
含少量琼脂,流动性与普通液体培养基有区别。
四、使用时的注意事项:制作硫乙醇酸盐流体培养基时,需要注意以下问题:
硫乙醇酸盐流体培养基有少量的的琼脂,在灭菌后,培养基应呈现无浑浊状态,如果放置一段时间,出现轻微浑浊,尤其是放入冰箱后,浑浊现象更加明显。浑浊程度一方面可能与培养基用的琼脂质量有关,另一方面也可能与灭菌是否彻底有关,应具体分析。如果是前者可考虑更换培养基厂家或批号、或者更换琼脂,如果是后者则应检查仔细灭菌操作和灭菌设备。
培养基在灭菌后至使用过程中取放应避免摇晃,以免培养基因振动而进入氧气,影响培养基的使用,接种操作应动作迅速、敏捷,否则暴露在空气中过长,培养基被氧化。
在接种前,氧化层的颜色 (粉红色) 如果超过培养基深度的 1/5,须经水浴煮沸加热至粉红色消失(不超过 20 min),并迅速冷却。培养基加热只限一次,以免培养基质量下降。
刃天青应以新鲜配制为准,否则影响判断。
硫乙醇酸盐产品放进去变红色了是氧化形成的,属于正常现象。加入产品后出现少量红色不影响使用,可通过加热去除,注意密闭防止氧化大量变红。硫乙醇酸盐流体培养基主要用于厌氧菌的培养,也可用于需氧菌的培养。
液体硫乙醇酸盐培养基(FT)
成分
胰酶消化酪蛋白胨 15.0gL-胱氨酸
0.5g
无水葡萄糖 5.0g酵母膏 5.0g
氯化钠 2.5g硫乙醇酸钠 0.5g
新配置的0.1%刃天青(Resazurin) 1.0ml琼脂 0.75g
蒸馏水 1000mL
制法
除葡萄糖和刃天青溶液外,取上述成分混合,微温溶解
,调节pH为弱碱性,煮沸,滤清,加入葡萄糖和刃天青溶液,摇匀,调节pH,使灭菌后在25°C的pH值为7.1
土0.2。分装至适宜的容器中,其装量与容器高度的比例应符合培养结束后培养基氧化层(粉红色)不超过培养基深度的
1/2。灭菌。在供试品接种前,培养基氧化层的高度不得超过培养基深度的1/5,否则,须经100°C水浴加热至粉红色消失(不
释
过
2
0
分钟),迅速冷却,只限加热
一次,并防止被污染。除另有规定外,硫乙醇酸盐流体培养基置30〜
35°C培养。
别名:硫氢基乙酸、巯基乙酸;分子式 C2H4O2S;HSCH2COOH 。外观与性状、无色透明液体,有强烈令人不愉快的气味。分子量 92.12 蒸汽压 1.33kPa/18℃ 闪点:&gt110℃ 。熔点 -16.5℃ 沸点:123℃/3.86kPa 溶解性 与水混溶,可混溶于乙醇、乙醚,溶于普通溶剂。
制作硫乙醇酸盐流体培养基时,需要注意以下问题:
(1)硫乙醇酸盐流体培养基有少量的的琼脂,在灭菌后,培养基应呈现无浑浊状态,如果放置一段时间,出现轻微浑浊,尤其是放入冰箱后,浑浊现象更加明显。浑浊程度一方面可能与培养基用的琼脂质量有关,另一方面也可能与灭菌是否彻底有关,应具体分析。如果是前者可考虑更换培养基厂家或批号、或者更换琼脂,如果是后者则应检查仔细灭菌操作和灭菌设备。
(2)培养基在灭菌后至使用过程中取放应避免摇晃,以免培养基因振动而进入氧气,影响培养基的使用,接种操作应动作迅速、敏捷,否则暴露在空气中过长,培养基被氧化。
硫乙醇酸盐流体培养基配方:
酪胨(胰酶水解)15.0g
葡萄糖5.0gL-胱氨酸0.5g
硫乙醇酸钠0.5g (或硫乙醇酸)(0.3ml)
酵母浸出粉5.0g氯化钠2.5g
新配制的0.1%刃天青溶液1.0ml 琼脂0.75g
水1000ml
制备
除葡萄糖和刃天青溶液外,取上述成分混合,微温溶解,调节pH为弱碱性,煮沸,滤清,加入葡萄糖和刃天青溶液,摇匀,调节pH为7.1±0.2
在接种前,培养基氧化层的高度不得超过培养基深度的1/5,否刚需经100℃水浴加热到粉红色消失(不超过20分钟)迅速冷却,只限加热一次,并应防止被污染。