怎么判定试剂级硫酸的等级，和工业硫酸怎么区别
工业硫酸国家标准的检验方法
1、硫酸含量的测定和发烟硫酸中游离三氧化硫含量的测定
①本方法为GB11198.1-89《工业硫酸 硫酸含量的测定和发烟硫酸中游离三氧化硫含量的计算 滴定法》。此标准参照采用国际标准ISO910-1977《工业硫酸和发烟硫酸——总酸度的测定和发烟硫酸中游离三氧化硫含量计算——滴定法》。
1.1 方法原理
以甲基红-次甲基蓝为指示剂，用氢氧化钠标准溶液中和滴定，以测得硫酸含量。或由测得的硫酸含量换算成游离三氧化硫含量。
1.2 试剂和溶液
氢氧化钠（GB629）标准溶液：c(NaOH)＝0.5mol/L；甲基红-次甲基蓝混合指示剂。
1.3 仪器
玻璃安瓿球（直径约15mm，毛细管端长约60mm）。
1.4 称样和试液的制备
1.4.1 特种硫酸和浓硫酸
用已称量的带磨口盖的小称量瓶，称取约0.7g试样（称准至0.0001g）小心移入盛有50ml水的250ml锥形瓶中，冷却至室温，备用。
1.4.2 发烟硫酸
将安瓿球称量（称准至0.0001g），然后在微火上烤热球部，迅速将该球之毛细管插入试样中，吸入约0.7g试样，立即用火焰将毛细管顶端烧结封闭，并用小火将毛细管外壁所沾上的酸液烤干，重新称量。
将已称量的安瓿球放入盛有100ml水的具磨口塞的50ml锥形瓶中，塞紧瓶塞，用力振摇以粉碎安瓿球，继续振荡直至雾状三氧化硫气体消失，打开瓶塞，用玻璃棒轻轻压碎安瓿球的毛细管，用水冲洗瓶塞、瓶颈及玻璃棒，备用。
1.5 测定步骤
1.5.1 特种硫酸的浓硫酸
于试液（1.4.1）中，加2-3滴混合指示剂，用氢氧化钠标准溶液滴定至溶液呈灰绿色为终点。
1.5.2 发烟硫酸
于试液（1.4.2）中，加2-3滴混合指示剂，用氢氧化钠标准溶液滴定至溶液呈灰绿色为终点。
1.6 计算
1.6.1 特种硫酸和浓硫酸
硫酸的含量X（%）按式（1）计算：
X＝(V*c*0.04904)/m*100 （1）
式中 V——滴定耗用的氢氧化钠标准溶液体积，ml；
c——氢氧化钠标准溶液浓度，mol/L；
0.04904——与1.00ml1.000mol/L氢氧化钠标准溶液相当的，以克表示的硫酸的质量。
1.6.2 发烟硫酸
发烟硫酸中游离三氧化硫的含量X1（%）按式（2）计算或由附录A表A1查得。
X1＝4.444*(X－100) （2）
式中 X——按1.6.1条中式（1）算出的发烟硫酸中硫酸的质量百分含量；
4.444——游离三氧化硫的换算系数。
1.7 允许误差
测定结果以算术平均值报出。
1.7.1 特种硫酸和浓硫酸中硫酸含量平行测定允许绝对偏差为0.2%。
1.7.2 发烟硫酸中游离三氧化硫含量平行测定允许绝对偏差为0.6%。
2、灰色的测定（按GB11198.2-89《工业硫酸 灰分测定 重量法》规定进行）
3、铁含量的测定[按GB11198.3-89《工业硫酸 铁含量的测定 邻菲罗啉分光光度法》（仲裁法）或GB11198.4-89《工业硫酸 铁含量的测定 原子吸收分光光度法》规定进行]
4、砷含量的测定[按GB11198.5-89《工业硫酸 砷含量的测定 二乙基二硫代氨基甲酸银光度法》（仲裁法）或GB11198.6-89《工业硫酸 砷含量的测定 古蔡法》规定进行]
5、铅含量的测定[按GB11198.7-89《工业硫酸 铅含量的测定 双硫腙光度法》（仲裁法）或GB11198.8-89《工业硫酸 铅含量的测定 原子吸收分光光度法》规定进行]
6、汞含量的测定[按GB11198.9-89《工业硫酸 汞含量的测定 以硫腙光度法》（仲裁法）或GB11198.10-89《工业硫酸 汞含量的测定 冷原子吸收分光光度法》规定进行]
7、氮氧化物含量的测定（按GB11198.11-89《工业硫酸 氮氧化物测定 2，4-二甲苯酚分光光度法》规定进行）
8、二氧化硫含量的测定（按GB11198.12-89《工业硫酸 二氧化硫含量的测定 碘量法》规定进行）
9、氯含量的测定（按GB11198.13-89《工业硫酸 氯含量的测定 电位滴定法》规定进行）
10、透明度的测定（按G11198.14-89《工业硫酸 透明度的测定》规定进行）
11、色度的测定（按G11198.15-89《工业硫酸 色度的测定》规定进行）
工业硫酸国家标准的技术要求
工业硫酸应符合下列技术标准要求：
项 目 标 准 指 标
优等品 一等品 合格品 优等品 一等品 合格品
硫酸（H2SO4）含量，% ≥ 92.5或98.0 92.5或98.0 92.5或98.0 92.5或98.0
游离三氧化硫（SO3）含量，% ≥ 20.0 20.0 20.0
灰分，% ≤ 0.02 0.03 0.03 0.10 0.03 0.03 0.10
铁（Fe）含量，% ≤ 0.005 0.010 0.010 0.010 0.010 0.030
砷（As）含量，% ≤ 8*10-5 0.0001 0.005 0.0001 0.0001
铅（Pb）含量，% ≤ 0.001 0.01 0.01
汞（Hg）含量，% ≤ 0.0005
氮氧化物（以N计）含量，% ≤ 0.0001
二氧化硫（SO2）含量，% ≤ 0.01
氯（Cl）含量，% ≤ 0.001
透明度，mm ≥ 160 50 50
色度，ml ≤ 1.0 2.0 2.0
工业级的硫酸里面有杂质,且其纯度是不确定的,里面可能有重金属,灰分,有氯,二氧化硫.
工业制硫酸的原料一般是黄铁矿石 成分为FeS2 将其磨碎，在燃烧炉中燃烧，生成Fe2O3和 SO2气体 。
4FeS2 + 11O2 == 2Fe2O3 + 8SO2(气体)
SO2在催化剂存在（一般为V2O5）的情况下继续氧化成SO3
2SO2 + O2 == 2SO3
SO3用水吸收，就可生成硫酸.可想而知这个过程会有多少可能搀杂各种杂质。
试剂硫酸的制作过程和工业硫酸是不一样的.它可以由工业硫酸在石英器皿中加热蒸馏制得,这也就导致了其中不会有掺入任何杂质的可能,但是由于这样的制法会消耗更多的能源,它的价格也就更贵一些。
试剂硫酸的纯度高，杂质含量几乎为零。是专门用来做化学实验、化学分析使用的。
一般工业硫酸分为93%、98%、105%三种，纯度不是很高，杂质含量高些、杂质成分也很复杂，但是，它可以广泛地用于工业使用，如化肥、金属提炼，皮革中和、电镀酸洗等等行业。
1.稀硫酸制浓硫酸的制法，以氯碱厂干燥过氯气或氯化氢气的稀硫酸为原料，经加热、浓缩、分馏，连续制工业98％硫酸或92．5％硫酸，并蒸馏联产电瓶硫酸
2.稀硫酸制浓硫酸联产电瓶硫酸的制法，用氯碱厂干燥过氧气或者氯化氢气的稀硫酸为原料经加热蒸发、浓缩、分馏制工业级98％硫酸蒸馏联产电瓶硫酸，包括制92．5％工业级硫酸
3.一种硫酸生产工艺方法，该方法中的炉气净化工序是将焙烧炉排出的炉气经过降温后通过加压风机加压送至布袋除尘器中，将炉气中的胶体形态的三硫化二砷、液态的氟硅酸、少量的硫酸酸雾与烟气中的其它杂质粉尘一起混合从炉气中分离除去。本发明与现有技术相比具有如下特点：设备、设施投资小、金属的回收率高、无污水排放，所生产的硫酸的杂质量极小、透明度高、质量好
一般工业硫酸分为93%、98%、105%三种，纯度不是很高，杂质含量高些、杂质成分也很复杂，但是，它可以广泛地用于工业使用，如化肥、金属提炼，皮革中和、电镀酸洗等等行业。
硫酸（化学式：H₂SO₄），硫的最重要的含氧酸。无水硫酸为无色油状液体，10.36℃时结晶，通常使用的是它的各种不同浓度的水溶液，用塔式法和接触法制取。前者所得为粗制稀硫酸，质量分数一般在75%左右；后者可得质量分数98.3%的纯浓硫酸，沸点338℃，相对密度1.84。
硫酸是一种最活泼的二元无机强酸，能和许多金属发生反应。高浓度的硫酸有强烈吸水性，可用作脱水剂，碳化木材、纸张、棉麻织物及生物皮肉等含碳水化合物的物质。与水混合时，亦会放出大量热能。其具有强烈的腐蚀性和氧化性，故需谨慎使用。是一种重要的工业原料，可用于制造肥料、药物、炸药、颜料、洗涤剂、蓄电池等，也广泛应用于净化石油、金属冶炼以及染料等工业中。常用作化学试剂，在有机合成中可用作脱水剂和磺化剂。
电子级硫酸又称高纯度硫酸、超纯硫酸，属于超净高纯试剂，是一种微电子技术发展过程中不可缺少的关键基础化学试剂，是半导体工业常用的八大化学试剂之一。电子级硫酸广泛用于半导体、超大规模集成电路的装配和加工过程，主要用于硅晶片的清洗和刻蚀，可有效去除晶片上的杂质颗粒、无机残留物和碳沉积物。
硫酸属于国家管制的违险有害化学品。
浓硫酸属于腐蚀性物品，所以是违禁品。
一般指国家规定限制生产、购买、运输和持有的枪支弹药、刀具、爆炸物品、剧毒化学品、窃听窃照专用器材、迷药、毒品、固体等。
包括禁止和限制寄递的物品：爆炸性、易燃性、腐蚀性、毒性、强酸碱性和放射性挥发性的各种危险物品，如雷管、火药、爆竹、汽油、酒精、煤油、桐油、生漆、火柴、农药等所有列入化学工业出版社出版的“化学危险品实用手册”中的化工产品。
硫酸用途
硫酸是化学工业的基本原料之一，主要用于制造无机化学肥料、有色金属的冶炼、钢铁酸洗、石油精炼以及石油化工，纺织印染、国防军工、农药、医药制革和炼焦等工业部门。
超纯硫酸又称为高纯硫酸、电子级硫酸。是半导体工业常用的八大化学试剂之一，消耗量位居第三．主要用于硅晶片的清洗、光刻、腐蚀以及印刷电路板的腐蚀和电镀清洗。超纯硫酸的生产随着电子工业的发展而发展。
当然是强酸，所谓强酸指的是在水中能完全电离酸，浓硫酸虽然基本上是硫酸分子，可是只要溶于水，那溶解的部分就是100%电离成氢离子和硫酸根离子，妥妥的在水中完全电离，当然是强酸了
电子级硫酸广泛应用于半导体、超大规模集成电路的装配和加工过程，主要用于硅晶片的清洗和蚀刻，可有效除去晶片上的杂质颗粒、无机残留物和碳沉积物。
电子级硫酸的纯度和洁净度对电子元件的成品率、电性能及可靠性有着重要的影响。
