抛光陶瓷片用多少研磨膏

陶瓷可以研磨, 但不知你的陶瓷工件是什麼用途, 要用何种形式来研磨. 基本上使用金刚石(SDC,即俗称的钻石) 作磨料. 如果是手动抛光, 就用钻石膏(研磨粉为金刚石 + 切削液, 针筒状), 但要选择正确粒度以确保光洁度. 如果是要在磨床上进行研磨加工, 就要选择金刚石固结磨具, 以金刚石为磨料, 以树脂或青铜为结合剂作成的砂轮. 依您所述及考虑到车削, 应是圆筒状陶瓷工件, 可能就是外圆(顶心)研磨或无心研磨, 则建议树脂金刚石砂轮, 因为容易购得, 市场磨削经验也丰富.

常用研磨膏有：

研磨膏

刚玉类研磨膏——主要用于钢铁件研磨；

碳化硅、碳化硼类研磨膏——主要用于硬质合金、玻璃、陶瓷和半导体等研磨；

氧化铬类研磨膏——主要用于精细抛光或非金属类的研磨；

金刚石类研磨膏——主要用于钨钢模具、光学模具、注塑模具等研磨抛光；金相分析实验过程中的研磨抛光，牙科材料（义齿）研磨抛光，牙科材料（义齿）研磨抛光，硬质合金等高硬度材料的研磨。

粒度质量

目数 粒度 质量百分比 用途

F600 （30µ） 52% 26% 20% 硫化油2%或煤油少许 粗研

F800 （25µ） 46% 28% 26% 煤油少许 半精研

F1000 （20µ） 42% 30% 28% 煤油少许 半精研

F1200 （15µ） 41% 31% 38% 煤油少许 精研（一般亮度）

F3000 （6µ） 40% 32% 28% 煤油少许 精研（精密亮度）

F5000 （4µ） 40% 26% 26% 凡士林8% 精细研（精密亮度）

F8000 （3µ） 25% 35% 30% 凡士林10% 超精细研（精密亮度）

成分用途编辑

研磨膏名称 成分及比例 用途

碳化硅研磨膏 碳化硅(F240)83%,凡士林17% 粗研

碳化硼研磨膏 碳化硼(F600)65%,石蜡35 % 半精研

混合研磨膏 碳化硼(F600)35%,白刚玉(F600~F1000)与混合脂15%,油酸35 % 半精研

碳化硼研磨膏 碳化硼(F1200以上)76%,石蜡12%,洋油10%,松节油2% 精细研

金刚石研磨膏编辑

类型

根据所含磨料的成分来分，可分为多晶金刚石与单晶金刚石；根据溶剂的种类来分，有油性和水性之分。

型号

粒度号 粒度尺寸（微米） 颜色标志 光洁度（级）和效果 金刚石含量（克拉）

W40 40 ~ 28 淡黄 9 - 10 （粗研） 1.5

W28 28 ~ 20 灰 9 - 10 （粗研） 1.5

W20 20 ~ 16 深兰 9 - 10 （粗研） 1.5

W16 16 ~10 青莲 10 - 11 （一般亮度） 1.5

W10 10 ~ 7 洋兰 10 - 11 （一般亮度） 1.5

W7 7 ~ 5 玫红 10 - 11 （精密亮度） 1.25

W5 5 ~3 桔黄 11 - 12 （精密亮度） 1.25

W3 3 ~ 1 草绿 11 - 12 （镜面亮度） 1

W1 1 ~ 0.5 桔红 12 - 13 （超镜面亮度） 1

W0.5 <0.5 兰灰 13 - 14 （超镜面亮度） 1

一般来说使用平面抛光机在进行抛光氧化铝陶瓷都是采用铁盘开粗，然后用白布进行抛光，但是这种效率非常慢，往往白布抛光要经过30-40分钟后才能达到应有的镜面。这是批量加工无法接受的。其实也有其他方法，铁盘开粗后，直接用锡盘研磨出镜面，这种方法其实也有缺点，就是锡盘加工成本高，很难达到量产。最好的办法是铁盘开粗，然后用金刚石盘对产品进行研磨，这种方法是可行的。虽然成本有点高，但是重在高效率，往往几分钟就可以抛光好一批产品，是非常理理想的!

是企业的重点之重。海德研磨自主研发高精密平面研磨机，专业的工艺研发实验室和10多条研磨抛光加工生产线.。常见的陶瓷材料有氧化铝陶瓷、氧化锆陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等。

利用陶瓷平面抛光机抛光陶瓷的步骤分为粗抛、半精抛和精抛三阶段。

1、粗抛阶段主要借助大粒度磨粒的机械作用将抛光表面的较大凸起快速去除，以实现材料去除率的最大化，缩短抛光时间

2、半精抛阶段采用粒度较小的磨粒将粗加工中未去除的微凸起去除，并获得较好的表面光洁度3

3、精抛阶段则在抛光液和微粉的联合作用下，将抛光表面修正至所需的表面质量要求。