陶瓷球磨机有什么用途

一、简介：

双面研磨机(double-lapping machine)主要用于两面平行的晶体或其它机械零件进行双面研磨，特别是薄脆性材料的加工。适用于各种材质的机械密封环、陶瓷片、气缸活塞环、油泵叶片轴承端面及硅、锗、石英晶体、石墨、蓝宝石、光学水晶、玻璃、铌酸锂、硬质合金、不锈钢、粉灰冶金等金属材料的平面研磨和抛光。

二、工作原理：

1、单面研磨机的工作原理:

将被磨、抛材料放于研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压的方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。 研磨盘修整机构采用油压悬浮导轨前后往复运动，金刚石修面刀给研磨盘的研磨面进行精密修整，得到理想的平面效果。

2、双面研磨机的工作原理:

上、下研磨盘作相反方向转动，工件在载体内作既公转又自转的游星运动。磨削阻力小不损伤工件，而且两面均匀磨削生产效率高。有光栅厚度控制系统，加工后的产品厚度公差可控制。双面研磨机的装置包括两个研磨盘，游轮，四个电机，太阳轮，修面机等。 两者相比较，双面研磨机的构造相对要复杂一些，但是如果需要双面研磨的工件用双面机进行研磨比单面机的效率无形中要快一倍。这种双面研磨机的诞生和发展为很多行业的生产效率带来了改良。用的比较多的有光学玻璃行业的硅片，蓝宝石衬底，外延片等等。

抛光是一种对物品进行打磨使其更光亮的操作，那么什么情况什么物品需要进行抛光呢？而对于陶瓷来说，要进行镜面加工需要抛光。那么陶瓷怎么抛光？怎样能快速的完成抛光，怎样能使抛光的效果更好，那么我们应该怎么去选择合适简单的抛光方法这就让我们通过对常用的陶瓷抛光方法的了解去看看吧。

陶瓷怎么抛光

需要镜像处理。一般来说， 氧化铝陶瓷 件的加工比较困难。，氧化铝本身硬度高，很难磨出大小。其次，氧化铝陶瓷表面吸光性强，普通抛光很难达到镜面抛光效果。这使得氧化铝陶瓷的抛光变得无限困难，但我们公司已经解决了这个问题。一般来说，用平面 抛光机 抛光氧化铝陶瓷时，先用铁板粗化，再用白布抛光，但这种效率很慢，白布抛光往往需要30－40才能达到合适的镜面。这对于批处理来说是不可接受的。

其实还有其他方法。铁板粗化后直接用马口铁打磨镜面。其实这种方法也有缺点，就是马口铁的加工成本高，很难实现批量生产。的方法是将铁板粗化，然后用金刚石板打磨产品。这个方法是可行的。虽然成本有点高，但重点是效率高，几就能打磨一批产品，不合理也很理想！

常用的陶瓷抛光方法

1．1化学抛光化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。

1．2电解抛光电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。

电化学抛光过程分为两步：（1）宏观整平溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra＞1μm。（2）微光平整阳极极化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。

1．3超声波抛光将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中，依靠超声波的振荡作用，使磨料在工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小，不会引起工件 变形 ，但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。在溶液腐蚀、电解的基础上，再施加超声波 振动 搅拌溶液，使工件表面溶解产物脱离，表面附近的腐蚀或电解质均匀；超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程，利于表面光亮化。

1．4流体抛光流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有：磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。

1．5磁研磨抛光磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到Ra0．1μm。

通过我们对陶瓷怎么抛光的阅读，相信大家都对什么材质的陶瓷需要抛光和怎么样去进行抛光都有了一些个人观点。我们对陶瓷制品抛光无非是为了让其更美观、整洁、漂亮，所以我们就更需要了解常用的陶瓷抛光方法。文中对此也进行了重点介绍，主要有化学抛光、电解抛光、超声波抛光、流体抛光、磁研磨抛光等几种。

是企业的重点之重。海德研磨自主研发高精密平面研磨机，专业的工艺研发实验室和10多条研磨抛光加工生产线.。常见的陶瓷材料有氧化铝陶瓷、氧化锆陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等。

利用陶瓷平面抛光机抛光陶瓷的步骤分为粗抛、半精抛和精抛三阶段。

1、粗抛阶段主要借助大粒度磨粒的机械作用将抛光表面的较大凸起快速去除，以实现材料去除率的最大化，缩短抛光时间

2、半精抛阶段采用粒度较小的磨粒将粗加工中未去除的微凸起去除，并获得较好的表面光洁度3

3、精抛阶段则在抛光液和微粉的联合作用下，将抛光表面修正至所需的表面质量要求。

一般来说使用平面抛光机在进行抛光氧化铝陶瓷都是采用铁盘开粗，然后用白布进行抛光，但是这种效率非常慢，往往白布抛光要经过30-40分钟后才能达到应有的镜面。这是批量加工无法接受的。其实也有其他方法，铁盘开粗后，直接用锡盘研磨出镜面，这种方法其实也有缺点，就是锡盘加工成本高，很难达到量产。最好的办法是铁盘开粗，然后用金刚石盘对产品进行研磨，这种方法是可行的。虽然成本有点高，但是重在高效率，往往几分钟就可以抛光好一批产品，是非常理理想的!

冲击钻依靠旋转和冲击来工作。单一的冲击是非常轻微的，但每分钟 40，000多次的冲击频率可产生连续的力。可用于天然的石头或混凝土。冲击钻工作时在钻头夹头处有调节旋钮，可调普通手电钻和冲击钻两种方式。但是冲击钻是利用内轴上的齿轮相互跳动来实现冲击效果，但是冲击力远远不及电锤。它不适合钻钢筋混凝土。主要适用于对混凝土地板、墙壁、砖块，石料，木板和多层材料上进行冲击打孔；另外 还可以在木材、金属、陶瓷和塑料上进行钻孔和攻牙而配备有电子调速装备作顺/ 逆转等功能。

冲击钻电机电压有着0V-230V与0V-115V两种不同的电压，控制微动开关的离合，取得电机快慢二级不同的转速，配备了顺逆转向控制机构、松紧螺丝和攻牙等功能。所以冲击钻的话是不适合抛光的！

抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。抛光盘的转速一般在1500-3000 r/min，多为无级变速，施工时可根据需要随时调整。

抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料，以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层，但抛光损伤层也较深；后者要求使用最细的材料，使抛光损伤层较浅，但抛光速率低。

解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层，这一阶段应具有最大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使抛光损伤减到最小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以避免抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相产生“曳尾”现象；湿度太小时，由于摩擦生热会使试样升温，润滑作用减小，磨面失去光泽，甚至出现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，最好不要超过600r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。

精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。抛光机抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构，已逐步引起有关专家的重视。国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新机型、新一代的抛光设备，正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。

通过以上对比可以得出，抛光机抛光的话比较适用一些！

看看选用磨粒硬度高些的磨料会不会好些。

1、氧化铝陶瓷采用激光加工以及超声波加工研磨及抛光。

2、成型的氧化铝陶瓷采用al2o3微粉或金刚石磨膏进行研磨抛光。

3、需要用施釉的方法(适合对表面光滑度要求很高的产品)。

4、氧化铝陶瓷需要用比氧化铝还要硬的金刚石、碳化硅等由粗到细逐级进行研磨。

5、用离子注入法对材料表面进行加工，离子注入陶瓷是对现有增韧机理的补充，是对制备好的陶瓷产品的深加工。

氧化铝陶瓷的密度相对比较低，所以在抛光处理时一定要选对方法来操作，这样才能制作出最好，最优，最合格的产品，以满足客户多方面的需要及要求，氧化铝陶瓷可成型为片材，依客户图纸订做各种异形件。