打磨和加工老瓷片需要什么工具

目前常用的抛光方法有以下几种：

1.1　机械抛光　机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量　要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。

1.2　化学抛光　化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。

1.3　电解抛光　电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。

电化学抛光过程分为两步：　（1）宏观整平　溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra＞1μm。　（2）微光平整　阳极极化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。

1.4　超声波抛光　将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中，依靠超声波的振荡作用，使磨料在工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小，不会引起工件变形，但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。在溶液腐蚀、电解的基础上，再施加超声波振动搅拌溶液，使工件表面溶解产物脱离，表面附近的腐蚀或电解质均匀；超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程，利于表面光亮化。

1.5　流体抛光　流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有：磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。

1.6　磁研磨抛光　磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。

2　机械抛光基本方法　在塑料模具加工中所说的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同，严格来说，模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有很高的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何精确度也有很高的标准。表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可。

镜面加工的标准分为四级：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由于电解抛光、流体抛光等方法很难精确控制零件的几何精确度，而化学抛光、超声波抛光、磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求，所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主。

2.1　机械抛光基本程序　要想获得高质量的抛光效果，最重要的是要具备有高质量的油石、砂纸和钻石研磨膏等抛光工具和辅助品。而抛光程序的选择取决于前期加工后的表面状况，如机械加工、电火花加工，磨加工等等。

机械抛光的一般过程如下：　（1）粗抛　经铣、电火花、磨等工艺后的表面可以选择转速在35　000-40　000　rpm的旋转表面抛光机或超声波研磨机进行抛光。常用的方法有利用直径Φ3mm、WA　#　400的轮子去除白色电火花层。然后是手工油石研磨，条状油石加煤油作为润滑剂或冷却剂。一般的使用顺序为#180　~　#240　~　#320　~　#400　~　#600　~　#800　~　#1000。许多模具制造商为了节约时间而选择从#400开始。　（2）半精抛　半精抛主要使用砂纸和煤油。砂纸的号数依次为：#400　~　#600　~　#800　~　#1000　~　#1200　~　#1500。实际上#1500砂纸只用适于淬硬的模具钢（52HRC以上），而不适用于预硬钢，因为这样可能会导致预硬钢件表面烧伤。　（3）精抛　精抛主要使用钻石研磨膏。若用抛光布轮混合钻石研磨粉或研磨膏进行研磨的话，则通常的研磨顺序是9μm（#1800）~　6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的钻石研磨膏和抛光布轮可用来去除#1200和#1500号砂纸留下的发状磨痕。接着用粘毡和钻石研磨膏进行抛光，顺序为1μm（#14000）~　1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。　精度要求在1μm以上（包括1μm）的抛光工艺在模具加工车间中一个清洁的抛光室内即可进行。若进行更加精密的抛光则必需一个绝对洁净的空间。灰尘、烟雾，头皮屑和口水沫都有可能报废数个小时工作后得到的高精密抛光表面。

2.2　机械抛光中要注意的问题　用砂纸抛光应注意以下几点：　（1）用砂纸抛光需要利用软的木棒或竹棒。在抛光圆面或球面时，使用软木棒可更好的配合圆面和球面的弧度。而较硬的木条像樱桃木，则更适用于平整表面的抛光。修整木条的末端使其能与钢件表面形状保持吻合，这样可以避免木条（或竹条）的锐角接触钢件表面而造成较深的划痕。　（2）当换用不同型号的砂纸时，抛光方向应变换45°~　90°，这样前一种型号砂纸抛光后留下的条纹阴影即可分辨出来。在换不同型号砂纸之前，必须用100％纯棉花沾取酒精之类的清洁液对抛光表面进行仔细的擦拭，因为一颗很小的沙砾留在表面都会毁坏接下去的整个抛光工作。从砂纸抛光换成钻石研磨膏抛光时，这个清洁过程同样重要。在抛光继续进行之前，所有颗粒和煤油都必须被完全清洁干净。　（3）为了避免擦伤和烧伤工件表面，在用#1200和#1500砂纸进行抛光时必须特别小心。因而有必要加载一个轻载荷以及采用两步抛光法对表面进行抛光。用每一种型号的砂纸进行抛光时都应沿两个不同方向进行两次抛光，两个方向之间每次转动45°~　90°。

钻石研磨抛光应注意以下几点：　（1）这种抛光必须尽量在较轻的压力下进行特别是抛光预硬钢件和用细研磨膏抛光时。在用#8000研磨膏抛光时，常用载荷为100~200g/cm2，但要保持此载荷的精准度很难做到。为了更容易做到这一点，可以在木条上做一个薄且窄的手柄，比如加一铜片；或者在竹条上切去一部分而使其更加柔软。这样可以帮助控制抛光压力，以确保模具表面压力不会过高。　

（2）当使用钻石研磨抛光时，不仅是工作表面要求洁净，工作者的双手也必须仔细清洁。　（3）每次抛光时间不应过长，时间越短，效果越好。如果抛光过程进行得过长将会造成橘皮和点蚀。　（4）为获得高质量的抛光效果，容易发热的抛光方法和工具都应避免。比如：抛光轮抛光，抛光轮产生的热量会很容易造成橘皮。　（5）当抛光过程停止时，保证工件表面洁净和仔细去除所有研磨剂和润滑剂非常重要，随后应在表面喷淋一层模具防锈涂层。

3　影响模具抛光质量的因素　由于机械抛光主要还是靠人工完成，所以抛光技术目前还是影响抛光质量的主要原因。除此之外，还与模具材料、抛光前的表面状况、热处理工艺等有关。优质的钢材是获得良好抛光质量的前提条件，如果钢材表面硬度不均或特性上有差异，往往会产生抛光困难。

钢材中的各种夹杂物和气孔都不利于抛光。

3.1　不同硬度对抛光工艺的影响　硬度增高使研磨的困难增大，但抛光后的粗糙度减小。由于硬度的增高，要达到较低的粗糙度所需的抛光时间相应增长。同时硬度增高，抛光过度的可能性相应减少。

3.2　工件表面状况对抛光工艺的影响　钢材在切削机械加工的破碎过程中，表层会因热量、内应力或其他因素而损坏，切削参数不当会影响抛光效果。电火花加工后的表面比普通机械加工或热处理后的表面更难研磨，因此电火花加工结束前应采用精规准电火花修整，否则表面会形成硬化薄层。如果电火花精修规准选择不当，热影响层的深度最大可达0.4mm。硬化薄层的硬度比基体硬度高，必须去除。因此最好增加一道粗磨加工，彻底清除损坏表面层，构成一片平均粗糙的金属面，为抛光加工提供一个良好基础。

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瓷砖打磨抛光方法：

抛光：缝隙一般使用毛刷进行沟缝抛光还可以使用竹签或竹筷子粘上抛光粉抛光，表面一般使用毡轮抹上抛光膏或使用牛皮粘上配好的钻石抛光粉进行表面精抛。

手工打磨抛光方法：先使用600#砂纸粗抛，再使用细的砂纸2000#细抛，然后使用块状牛皮粘上玉石抛光粉进行精抛。

一常见的3种抛光方法

1、使用吊磨机抛光。

2、使用圆盘抛光机抛光。

3、震动抛光机一般适合大批量的抛光。

二选择一些常用工具

①雕刻吊磨机（注；建议使用带软轴的吊磨机，有了软轴使用起来更加灵活更加的方便。）

②准备一些相应金刚石打磨头及玉石条形锉刀和砂纸等。。

③准备一些相应羊毛毡和牛皮及橡胶打磨轮和毛刷等。。

④准备一些抛光粉或抛光膏和上光腊。

⑤雕刻时使用的固定胶。

⑥震动抛光机使用的研磨石

博深抛光机

宝工抛光机

大有抛光机

华盛昌抛光机

百得抛光机

世纪抛光机

其他抛光机

《原文出自新志气动工具》BOOXT波世特

抛光工艺是通过抛光机实现的，抛光工艺的水平受到抛光机结构配置、抛光磨块和工艺参数等因素的影响。多年来，许多企业都在努力提高抛光工艺水平，或是改良抛光机结构配置，或是提升抛光耗材的使用寿命，还有优化工艺参数。企业的你追我赶使得陶瓷行业的瓷砖产品拥有更亮丽多样的表面效果，也提升了抛光机的节能降耗水平。

细分市场

佛山市巴赛尔机电有限公司(以下简称“巴赛尔机电”)总经理黄惠廷介绍到，瓷砖抛光工艺分为粗抛、素抛、半抛、全抛和柔抛等，而瓷砖抛光机有刮平粗抛机、素坯抛光机和普通抛光机等分类。粗抛是应用刮平粗抛机对瓷砖砖坯进行刮平定厚的；素抛是针对瓷片抛光使用的，使用的是素坯抛光机；而半抛则是针对手工砖和仿古砖的抛光工艺；全抛是抛光砖和抛釉砖使用的工艺；柔抛是针对近年来比较热门的柔光砖和喷墨渗花抛光砖使用的工艺。

此外，抛光砖和抛釉砖虽然都是使用全抛工艺，但是在抛光机的结构和电机功率、磨块和磨头的搭配以及磨块的材质上都有区分。抛釉砖抛光使用的是弹性磨块，而抛光砖使用的是合金磨块，目数和烧结强度都比弹性磨块要高。

由于抛光机种类多，企业的仓储能力、软件实力和财力都十分重要，所以许多生产抛光机的企业选择生产其中的几类产品。而且，现在耗材的市场竞争大，全国有几百家企业，以中小企业为主，然而市场却在萎缩，企业的库存压力较大。许多生产耗材的企业都在想办法降低成本，同时也在专注细分市场的耕耘，把产品做得更专业，不然就会被淘汰。

一位在瓷砖抛光线上工作多年的主管人员表示，如果不考虑瓷砖本身所具有的内因，单就抛光工艺而言，影响瓷砖抛光的几个主要因素是抛光液、抛光磨头、抛光磨块和抛光工艺参数。

水是常用的抛光液，它既可起磨削冷却的作用，又可作为抛光过程中物理作用的介质；抛光磨头是装备抛光磨块的设备，每平方米瓷砖分配的抛光磨头的数量会影响瓷砖的抛光精度；抛光磨块的制作材料多样，对抛光砖进行抛光时多采用含有金属材料制成的抛光磨块，硬度较软的磨块适用于柔光砖或弧面型瓷砖的抛光，硬度适中的磨块对全抛釉等瓷砖抛光的效果比较好。

此外，抛光工艺参数有抛光剂的浓度和供给量及抛光时的压力和线速度等。在小于某一浓度值之前，抛光速度随抛光剂浓度的增加而增加，浓度值达最大之后，若再增加浓度，抛光速度反而降低。同样，抛光剂的供给量在一定值时，抛光速度最大，之后若继续增加供给量，抛光速度反而降低。适当增加抛光时的压力，可以增加抛光速度，但压力过大，磨削作用加强，不利于光泽面的形成。抛光速度取决于抛光磨头的转速，但线速度过大，抛光剂将会被甩出，造成浪费。

抛光机革新

黄惠廷透露，从上世纪九十年代初现代化瓷砖抛光机被引进中国开始，抛光机就成为了瓷砖生产线必不可少的部分。而在整个瓷砖抛光生产线中，抛光机是最重要的加工设备，瓷砖经过抛光加工后表面具有平整光亮的特点。瓷砖抛光的质量主要取决于抛光机工艺参数的制定，然而生产过程中普遍存在由于工艺参数设置不当造成漏抛、返抛的现象。同时陶瓷抛光机是高能耗设备，占据了30%-40%的抛光生产线电力成本，而传统陶瓷抛光机工艺参数的制定大多建立在改善瓷砖表面加工质量和提高抛光的生产效率等问题上，缺乏能源消耗过程的考虑，导致能源损耗大、利用率低。节能降耗一直是陶瓷生产企业关注的焦点，工艺参数是控制生产质量和能耗的关键，基于参数的优化寻求满足抛光质量最好与能耗最小的节能方式不仅可为陶瓷企业节省成本提高收益，更为我国节能减排事业提供切实的技术基础。

一直以来，人们印象中抛光机的基本结构都是瓷砖以正面向上的状态运行，磨头、抛光头在其上方进行磨削、抛光加工。时至今日，国内外的抛光机依然保持着这种最基本的运行结构。然而，在2015年广东一鼎科技有限公司推出了反置式抛光机，抛光磨头跟传统相比是反过来的，它的出现完全颠覆了人们对抛光机的传统认知。据一鼎科技副总经理廖卫平介绍，反置式抛光机大胆地将瓷砖与加工机械的位置进行反置，即瓷砖以正面向下的状态运行，而磨头、抛光头则在其下方进行磨削、抛光加工，其新颖模式令人瞩目。

有专家指出，反置式抛光机涉及的技术含量非常高，瓷砖反置之后，一方面要确保瓷砖反面运输的时候不掉下来，一方面又要确保瓷砖需要抛磨的地方都抛磨到位，这是非常考验技术设计的。

“传统的抛光机，特别是瓷片抛光机最大的问题是会吸水，吸水了以后反翘，在干燥过程中，甚至会造成釉面釉裂等一系列麻烦。”一鼎科技董事长冯竞浩表示，反置式抛光机正是为解决这些问题而设计。

反置式抛光机则利用了地球引力的作用，使抛光过程中产生的磨削依据自重向下掉落，无需大量冲水来带走磨削，只需要少量的水来进行冷却和润滑，防止抛磨过程过热把砖抛花。同时，瓷砖只有釉面接触到水，而釉面砖的釉层不透水，因此，抛光后砖坯不会吸收水分，无需加热干燥就可以直接包装。

据一鼎科技提供的数据显示，普通的抛光机每分钟需要600升水，而反置式抛光机每分钟只需要40升水，这就意味着每分钟节约560升水，假设一天按照工作8小时来计算，每天可以节约26.8吨水。所以，反置式抛光机又被称为“微水型抛光机”，仅节水这一项就可以为企业带来不小的效益。而且由于抛光过程耗水量极低，其产生的“污水”可直接在陶瓷原料加工时消耗掉，无需进行污水处理，企业还可以节省污水治理方面的投入。

柔抛工艺不断完善

近年来，为了配合柔光砖的生产，出现了一种“柔抛工艺”，又称“靠形抛光”。以柔抛工艺对瓷砖表面肌理进行控制，促使光线在瓷砖表面形成漫反射，降低砖面反光率，创造柔和的视觉光感，从而有效结合亮光瓷砖的明艳和亚光瓷砖的内敛效果，产品的质感更细腻，光感更柔和。

另一方面，喷墨渗花抛光砖目前也应用了柔抛工艺，陶企为了尽量保留纹理的细节表现，提高砖面质感与精细度，使用渗花工艺生产抛光砖对于砖坯的平整度要求极高，并且无法进行深度抛光，多为柔抛，砖面的平整度较传统抛光砖略差，工艺控制不到位甚至会出现较明显的水波纹。

某陶企抛光生产线的主任分析到，柔抛工艺在行业中又习惯称软抛工艺，主要是指抛光的切削量很少，着重于提高表面的光泽度，一般不需要刮平、粗抛工序，直接进行精抛，而且磨头的磨料细度很高。例如，普通用于抛光砖加工的磨料细度一般为30-1500目，最高不超过1800目，切削厚度一般为0.8-1.5mm。而用于釉面抛光砖加工的磨料一般为600-5000目，甚至更高，切削厚度一般少于0.2mm。另外，在生产某些亚光砖时，采用硬质毛刷代替传统的磨头，因此在行业中也有人称为柔抛工艺。

该主管透露，准确来讲，其实柔抛工艺与靠形抛光是两回事，但在釉面砖如全抛釉的生产过程这两种工艺中往往同时使用。靠形抛光行业中又习惯称为弹性抛光，其最大的特点是能够在一定程度上沿着砖面的形状进行抛光，而不会很明显地修正砖坯表面的平整度，该工艺主要应用于釉面砖生产。由于釉面砖的釉层比较薄，一般只允许切削表面0.2mm左右，如果采用传统的“刚性抛光”，容易出现明显的缺花、缺釉现象，或出现严重的漏抛现象。

那么，弹性抛光的原理是怎样实现“靠形”的呢？其实关键在于磨头结构的设计上。在抛光磨头工作面一般设计成粒状(块状)，工作面与底座之间设有一层1.0-1.5cm的弹性像胶，以使抛光时磨头的工作面能够根据砖面形状自由调整方向，实现靠形抛光的目的。因此，弹性抛光不能修正砖面的平整度。