氮化铝陶瓷和氮化硅陶瓷之间的优缺点在哪?
一,导热性能不同,氮化铝陶瓷基板有更高的导热率
氮化硅陶瓷基板的导热率一般75-80W/(m·K),氮化铝陶瓷基板的导热率最高可以去掉170W/(m·K),可见氮化铝陶瓷基板有这 更高的导热性能。
二,机械强度不同,氮化硅陶瓷具有比氮化铝陶瓷更高的强度
机械强度这方面,氮化铝陶瓷基板比起氮化硅陶瓷基板更加容易碎。氮化铝陶瓷基板的机械折弯强度达450mpa,氮化硅陶瓷基板的折弯强度是800mpa,可见高强度高导热氮化硅陶瓷基板有这较好的弯曲强度,可以提高氮化硅陶瓷覆铜板强度和抗冲击能力,焊接更厚的无氧铜而不会产生瓷裂现象,提高了基板的可靠性。
三,应用范围不同,氮化硅陶瓷基板是可靠性模组封装的基板材料。
氮化铝陶瓷基板和氮化硅陶瓷基板在LED,半导体以及大功率光电领域方面广范应用,用于导热性能要求比较高的领域。氮化硅
陶瓷基板具有高强度、高导热、高可靠的特点,可用湿法刻蚀工艺在表面制作电路,经表面镀覆后制得的一种用于高可靠性电子基板模块封装的基板材料,是新型电动汽车用 1681 功率控制模块的首选基板材料。此外,陶瓷基板产业还涉及 LED、精细陶瓷制备、薄膜金属化、黄光微影、激光成型、电化学镀、光学模拟、微电子焊接等多领域技术,产品在功率型发射器、光伏器件,IGBT 模块,功率型晶闸管、谐振器基座、半导体封装载板等大功率光电及半导体器件领域有广泛用途。
有关资料显示,氮化硅Si 3 N 4陶瓷基片弹性模量为320GPa,抗弯强度为920MPa,热膨胀系数仅为3.2×10 -6 /°C,介电常数为9.4,具有硬度大、强度高热膨胀系数小、耐腐蚀性高等优势。由于Si 3 N 4 陶瓷晶体结构复杂,对声子散射较大,因此早期研究认为其热导率低,如Si 3 N 4 轴承球、结构件等产品热导率只有15W/(m·K)~30W/(m·K)。但是,通过研究发现,Si 3 N 4 材料热导率低的主要原因与晶格内缺陷、杂质等有关,并预测其理论值最高可达320W/(m·K)。之后,在提高Si3N4材料热导率方面出现了大量的研究,通过工艺优化,氮化硅陶瓷热导率不断提高,目前已突破177W/(m·K)。
此外,与其他陶瓷材料相比,Si 3 N 4 陶瓷材料具有明显优势,尤其是在高温条件下氮化硅陶瓷材料表现出的耐高温性能、对金属的化学惰性、超高的硬度和断裂韧性等力学性能。Si 3 N 4 陶瓷的抗弯强度、断裂韧性都可达到AlN的2倍以上, 特别是在材料可靠性上,Si 3 N 4 陶瓷基板具有其他材料无法比拟的优势。
而氮化铝AlN,是兼具良好的导热性和良好的电绝缘性能少数材料之一,氮化铝具备以下优点:
(1)氮化铝的导热率较高,室温时理论导热率最高可达320W/(m·K),是氧化铝陶瓷的8~10倍,实际生产的热导率也可高达200W/(m·K),有利于LED中热量散发,提高LED性能;
(2)氮化铝线膨胀系数较小,理论值为4.6×10 -6 /K,与LED常用材料Si、GaAs的热膨胀系数相近,变化规律也与Si的热膨胀系数的规律相似。另外,氮化铝与GaN晶格相匹配。热匹配与晶格匹配有利于在大功率LED制备过程中芯片与基板的良好结合,这是高性能大功率LED的保障。
(3)氮化铝陶瓷的能隙宽度为6.2eV,绝缘性好,应用于大功率LED时不需要绝缘处理,简化了工艺。
(4)氮化铝为纤锌矿结构,以很强的共价键结合,所以具有高硬度和高强度,机械性能较好。另外,氮化铝具有较好的化学稳定性和耐高温性能,在空气氛围中温度达1000℃下可以保持稳定性,在真空中温度高达1400℃时稳定性较好,有利于在高温中烧结,且耐腐蚀性能满足后续工艺要求。
编辑本段结构
氮化铝陶瓷是以氮化铝(AIN)为主晶相的陶瓷。AIN晶体以〔AIN4〕四面体为结构单元共价键化合物,具有纤锌矿型结构,属六方晶系。化学组成 AI 65.81%,N 34.19%,比重3.261g/cm3,白色或灰白色,单晶无色透明,常压下的升华分解温度为2450℃。为一种高温耐热材料。热膨胀系数(4.0-6.0)X10(-6)/℃。多晶AIN热导率达260W/(m.k),比氧化铝高5-8倍,所以耐热冲击好,能耐2200℃的极热。此外,氮化铝具有不受铝液和其它熔融金属及砷化镓侵蚀的特性,特别是对熔融铝液具有极好的耐侵蚀性。
编辑本段性能:
AIN陶瓷的性能与制备工艺有关。 如热压烧结AIN陶瓷,其密度为3 .2一3 .3g/cm3,抗弯强度350一400 MPa(高强型900 MPa),弹性模量310 GPa,热导率20-30W.m(-1).K(-1),热膨胀系数5.6x10(-6)K(-1)(25℃一400℃)。机械加工性和抗氧化性良好。
编辑本段应用
: 1.氮化铝粉末纯度高,粒径小,活性大,是制造高导热氮化铝陶瓷基片的主要原料。 2.氮化铝陶瓷基片,热导率高,膨胀系数低,强度高,耐高温,耐化学腐蚀,电阻率高,介电损耗小,是理想的大规模集成电路散热基板和封装材料。 3.氮化铝硬度高,超过传统氧化铝,是新型的耐磨陶瓷材料,但由于造价高,只能用于磨损严重的部位. 4.利用AIN陶瓷耐热耐熔体侵蚀和热震性,可制作GaAs晶体坩埚、Al蒸发皿、磁流体发电装置及高温透平机耐蚀部件,利用其光学性能可作红外线窗口。氮化铝薄膜可制成高频压电元件、超大规模集成电路基片等。 5.氮化铝耐热、耐熔融金属的侵蚀,对酸稳定,但在碱性溶液中易被侵蚀。AIN新生表面暴露在湿空气中会反应生成极薄的氧化膜。 利用此特性,可用作铝、铜、银、铅等金属熔炼的坩埚和烧铸模具材料。AIN陶瓷的金属化性能较好,可替代有毒性的氧化敏瓷在电子工业中广泛应用。
2、热膨胀系数:氧化铝陶瓷电路板的导热系数和氮化铝陶瓷电路板基本相同。
导热率和热膨胀系数是最直接体现电路板性能的参数,相信大家已经能够比较直观看出氮化铝陶瓷电路板的优势,其实不光光是只是这两点,氮化铝陶瓷电路板可以将陶瓷电路板的易碎缺点降到最低,氮化铝陶瓷电路板的硬度会比氧化铝陶瓷电路板的硬度高很多。
氮化铝陶瓷综合性能优良,理论热导率为320W/(m),具有优良的热传导性,可靠的电绝缘性,低介电常数和损耗,无毒以及与硅相匹配的热膨胀系数。
利用AIN陶瓷耐热耐熔体侵蚀和热震性,可制作GaAs晶体坩埚、Al蒸发皿、磁流体发电装置及高温透平机耐蚀部件,利用其光学性能可作红外线窗口。氮化铝薄膜可制成高频压电元件、超大规模集成电路基片等。氮化铝耐热、耐熔融金属的侵蚀,对酸稳定,但在碱性溶液中易被侵蚀。AIN新生表面暴露在湿空气中会反应生成极薄的氧化膜。利用此特性,可用作铝、铜、银、铅等金属熔炼的坩埚和烧铸模具材料。AIN陶瓷的金属化性能较好,可替代有毒性的氧化铍瓷在电子工业中广泛应用。
(2)①通常情况下,空气中氮气的体积分数约为78%;
②因为氮气的密度比氧气小,是一种难于液化的气体,故氮气从液态空气中先蒸发出来;
(3)根据质量守恒定律和化学方程式可知,X的化学式中含有Al的个数为:2,含有N的个数为:2-2=0,含有C的个数为:3-3=0,含有O的个数为:3;故X的化学式为Al2O3;制AlN的化学方程式为:Al2O3+N2+3C═2AlN+3CO;
(4)铝在地壳中含量居所有元素的第3位;铝对人体的脑、心、肝、肾的功能和免疫功能都有损害,给大家提一条减少生活中铝元素摄入的合理化建议:少用铝制餐具或少吃用铝制易拉罐装的饮料.
故答案为:(1)B;
(2)78%,氮气;
(3)Al2O3,Al2O3+N2+3C═2AlN+3CO;
(4) 3,少用铝制餐具或少吃用铝制易拉罐装的饮料.
所以平时对于不同产品使用一定要多跟专业技术人员沟通,这样能够掌握更多正确的使用方法,多跟别人学习沟通,需要注意以下几个方面。
1.沟通时舍弃你的自尊心.
无谓的自尊和自傲只会成为沟通的绊脚石,因此,至少应当在沟通的时候舍弃自己所谓的自尊心。不要说出“我的自尊心不允许我……”这样的话,这只会让沟通无法进行下去。
2.与沟通对象坦诚相待.
沟通的过程中与沟通对象坦诚相待非常重要,不要有隐瞒,坦诚是你们通过沟通加深合作关系的重要台阶。首先可以通过自己的坦诚,让对方相信自己,进而带动对方对你坦诚,进而促进沟通的顺利愉 快进行。
3.清晰地陈述理由.
无论是什么问题,为什么、怎么做、理由是什么之类的一定要充分地向对方解释,即使没什么理由的行动,也一定要告知对方自己的考虑和想法,得到对方的理解和行动上的支持对于沟通的发展和接下 来事态的发展都有良好的帮助。