氮化铝是什么晶体

制备82t氮化铝，消耗的氮气质量是28t．

试题分析：设消耗的氮气质量为x Al 2 O 3 +N 2 +3C=2AlN+3CO 28         82 x        82t 根据： 解得x=28t

问题1：反应物中有氧化铝固体可能未反应完而留在AlN中，故答案为：Al2O3；
问题2：由于AlN跟氢氧化钠溶液反应生成NaAlO2、并放出NH3，其反应方程式为：AlN+NaOH+H2O=NaAlO2+NH3↑，生成NH3的物质的量为

336L

224L/mol

=015mol，根据氮元素守恒可知1000g样品中含有AlN的物质的量为015mol，AlN的质量为015mol×41g/mol=615g，样品中AlN的质量分数为

615g

100g

×100%=615%，
故答案为：615%；
问题3、（1）A、苯易挥发，会浪费试剂，排出液体增大，影响氨气体积测定，故A不选；
B、酒精易挥发，挥发出来的气体对实验有影响，同时由于酒精易溶于水，也不能达到隔离的目的，故B不选；
C、植物油既不溶于水，密度小于水也不易挥发，可以把氨气与水进行隔离，故C选；
D、CCl4密度大于水，不能起到隔离作用，故D不选；
故答案为：C；
（2）本次实验的目的在于测定产生气体的体积而不是收集纯净的气体，氨气排出装多少水，氨气的体积就是多少，广口瓶内的液体是否充满不影响所收集到的NH3体积大小，
故答案为：不变；
问题4、II中NH3极易被吸收，发生倒吸现象，同时氨气中含有水蒸气，装置中的氨气不能全部排出被烧杯中硫酸吸收，影响氨气质量的测定，测定结果会偏低，
故答案为：偏低；II中反应生成的氨气有少部分残留在锥形瓶中未被稀硫酸吸收，测定AlN的质量分数偏低．

氮化铝陶瓷基板作为电路元件及互连线承载体，广泛应用于军事和空间技术通讯、计算机、仪器仪表、电力电子设备、汽车、日用家电、办公自动化等各个领域。如LED照明电路、点火模块、晶闸管散热、大功率模块电路、可控硅整流器、大功率晶体管、半导体激光器、固体继电器、开关电源、大功率集成电路及封装等要求绝缘又高散热的大功率器件上。
体积密度 (g/cm3) 为329