陶瓷 怎样抛光打磨
要求做镜面加工。一般来说氧化铝陶瓷片加工是有一定的难度的，第一，氧化铝本身硬度较高，难以研磨尺寸。第二，氧化铝陶瓷表面吸光性较强，普通抛光难以达到镜面抛光效果。这就使得氧化铝陶瓷抛光的难度无限扩大，但是我司已经解决好这个问题。
一般来说使用平面抛光机在进行抛光氧化铝陶瓷都是采用铁盘开粗，然后用白布进行抛光，但是这种效率非常慢，往往白布抛光要经过30-40分钟后才能达到应有的镜面。这是批量加工无法接受的。其实也有其他方法，铁盘开粗后，直接用锡盘研磨出镜面，这种方法其实也有缺点，就是锡盘加工成本高，很难达到量产。最好的办法是铁盘开粗，然后用金刚石盘对产品进行研磨，这种方法是可行的。虽然成本有点高，但是重在高效率，往往几分钟就可以抛光好一批产品，是非常理理想的!
水阀片陶瓷镜面抛光工艺：一、研磨工序
研磨的目的是为了获得平整光滑的磨面。此时磨面上还留有极细而均匀的磨痕。研磨分为粗磨和精磨两种。
1.粗磨 粗磨是将粗糙的表面和不规则外形修正成形。
2.精磨 经过粗磨后金属表面尚有很深的磨痕，需要在细磨中消除，为抛光做准备。
二、镜面抛光工序
抛光工序是为了获得光亮似镜的表面加工过程。多数采用抛光轮来反复磨光后的零件表面上极微小的不平，通用于镀层表面的修饰。
抛光是镀层表面或零件表面最后—道工序，其目的是要消除在磨光工序后还残留在表面上的细微磨痕。理想的抛光面应该是平整、光亮、无痕、天浮雕、无坑、无金属扰乱层的似镜面状态的表面。经过研磨与抛光后的磨面变化。
1、所使用的抛光粉的粒度不均匀或者是掺杂有较大颗粒的杂质。
2、进行加工生产的环境不清洁。
3、所使用的抛光材料不干净。进行清洁所使用的擦布不干净并且带有粉尘。
4、进行精密研磨的时候会留下划痕没有完全抛光或者是，在清洗工件的时候不彻底所导致的。
5、需要检查光圈工件以及样板的是否干净，所使用的方法是否恰当。
6、所使用的抛光材料是否得当，所使用的时间过长，会在工件表面留下硬壳以及堆积物。
7、所使用的抛光膜以及抛光盘的不吻合。
对于以上的原因所造成的划痕，克服的方法有。
需要选用粒度较为均匀并且材质对应的抛光粉进行抛光，需要保管好所使用的物品。彻底清洁以及工作服帽子，在进行平面抛光机工作的时候需要进行检查，选用合适的抛光材料，定期的进行更换。
是企业的重点之重。海德研磨自主研发高精密平面研磨机，专业的工艺研发实验室和10多条研磨抛光加工生产线.。常见的陶瓷材料有氧化铝陶瓷、氧化锆陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等。
利用陶瓷平面抛光机抛光陶瓷的步骤分为粗抛、半精抛和精抛三阶段。
1、粗抛阶段主要借助大粒度磨粒的机械作用将抛光表面的较大凸起快速去除，以实现材料去除率的最大化，缩短抛光时间
2、半精抛阶段采用粒度较小的磨粒将粗加工中未去除的微凸起去除，并获得较好的表面光洁度3
3、精抛阶段则在抛光液和微粉的联合作用下，将抛光表面修正至所需的表面质量要求。
