抛光液的分类是什么

对于陶瓷来说，要进行镜面加工需要抛光。那么陶瓷怎么抛光？怎样能快速的完成抛光，怎样能使抛光的效果更好，那么我们应该怎么去选择合适简单的抛光方法这就让我们通过对常用的陶瓷抛光方法的了解去看看吧。

抛光是一种对物品进行打磨使其更光亮的操作，那么什么情况什么物品需要进行抛光呢？而对于陶瓷来说，要进行镜面加工需要抛光。那么陶瓷怎么抛光？怎样能快速的完成抛光，怎样能使抛光的效果更好，那么我们应该怎么去选择合适简单的抛光方法这就让我们通过对常用的陶瓷抛光方法的了解去看看吧。

陶瓷怎么抛光

需要镜像处理。一般来说， 氧化铝陶瓷 件的加工比较困难。，氧化铝本身硬度高，很难磨出大小。其次，氧化铝陶瓷表面吸光性强，普通抛光很难达到镜面抛光效果。这使得氧化铝陶瓷的抛光变得无限困难，但我们公司已经解决了这个问题。一般来说，用平面 抛光机 抛光氧化铝陶瓷时，先用铁板粗化，再用白布抛光，但这种效率很慢，白布抛光往往需要30－40才能达到合适的镜面。这对于批处理来说是不可接受的。

其实还有其他方法。铁板粗化后直接用马口铁打磨镜面。其实这种方法也有缺点，就是马口铁的加工成本高，很难实现批量生产。的方法是将铁板粗化，然后用金刚石板打磨产品。这个方法是可行的。虽然成本有点高，但重点是效率高，几就能打磨一批产品，不合理也很理想！

常用的陶瓷抛光方法

1．1化学抛光化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。

1．2电解抛光电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。与化学抛光相比，可以消除阴极反应的影响，效果较好。

电化学抛光过程分为两步：（1）宏观整平溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降，Ra＞1μm。（2）微光平整阳极极化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。

1．3超声波抛光将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中，依靠超声波的振荡作用，使磨料在工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小，不会引起工件 变形 ，但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。在溶液腐蚀、电解的基础上，再施加超声波 振动 搅拌溶液，使工件表面溶解产物脱离，表面附近的腐蚀或电解质均匀；超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程，利于表面光亮化。

1．4流体抛光流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有：磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动，使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物（聚合物状物质）并掺上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。

1．5磁研磨抛光磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷，对工件磨削加工。这种方法加工效率高，质量好，加工条件容易控制，工作条件好。采用合适的磨料，表面粗糙度可以达到Ra0．1μm。

通过我们对陶瓷怎么抛光的阅读，相信大家都对什么材质的陶瓷需要抛光和怎么样去进行抛光都有了一些个人观点。我们对陶瓷制品抛光无非是为了让其更美观、整洁、漂亮，所以我们就更需要了解常用的陶瓷抛光方法。文中对此也进行了重点介绍，主要有化学抛光、电解抛光、超声波抛光、流体抛光、磁研磨抛光等几种。

1、先选料

瓷砖抛光打蜡首先需要选择材料，在市场上供应的瓷砖蜡，有白色、浅黄色、棕黄色等，选择的时候可以根据自家地板颜色深浅选择。也可以用到烧剩的蜡烛头切碎去掉烛芯，加入等量的松节油，隔水煮沸，使蜡烛溶化，搅拌成鞋油状，可当地板蜡使用，但使用时需稍加热。

2、瓷砖除尘

瓷砖打蜡要除尘 先用钢丝绒垫在蜡刷上顺着瓷砖的纹路前后推动，用力搓擦，将垃圾、污渍、污垢彻底清扫干净，再用略湿的拖把拂拭一遍地板，即可上蜡。

3、方法介绍

瓷砖打蜡方法 每隔1年月或2个月上一次蜡，用量可依次递减些，第一次上蜡略多些，每30平方米的瓷砖，可打300克左右瓷砖蜡。上蜡时要均匀地涂抹在瓷砖表面并使其“浸透”，轻拭 上完蜡后，让瓷砖充分吸收，完全干透后，用干的软布在瓷砖上来回擦拭，直到平滑透亮为止。

扩展资料：

瓷砖抛光的优点：

1、瓷砖打蜡方法作伪的手法之一，瓷砖保养的一项措施。给瓷砖打蜡能去污上光，增加美观。

2、防虫、防潮、防开裂、减少外界对瓷砖的腐蚀和磨损，延长瓷砖使用寿命，是瓷砖保养的必要措施。

机械抛光。

机械抛光的机理是靠楔形挤压和抛光液的反弹增加微切削作用和被加工材料的微塑性流动作用达到抛光效果。由于陶瓷手机背板的厚度较小，且机械抛光是直接接触，摩擦可能导致工件出现应力变形，温度过高还可能使得晶格组织破坏，故在抛光过程中要注意温度的控制。

机械抛光是靠切削或使材料表面发生塑性变形而去掉工件表面凸出部分得到平滑面的抛光方法。一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主。表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件表加工表面上，作高速旋转运动。

扩展资料：

注意事项：

1、热水冲洗，陶瓷氧化处理之后需要用热水冲洗铝件，目的是老化膜层。但水温和时间要严格控制，水温过高膜层减薄，颜色变淡。处理时间过长也会出现上述类似问题，适宜的温度和时间是：温度40~50℃时间0.5~1MIN。

2、干燥：干燥以自然晾干为好，将热水冲洗完的铝件斜挂于架子上，让工作表面的游离水以垂直方向向下流。流至下端角边的水珠用毛巾吸去。

3、老化：老化方法可根据气候条件来决定，日光强烈的夏季可在日光下曝晒，阴雨天或是冬季可用烘箱烘烤，工艺条件是温度40~50℃时间10~15min。

参考资料来源：百度百科-陶瓷抛光

中文名

抛光浆

别名

一种优质的抛光粘液

含义

一种优质的抛光粘液

使用领域

自动抛光机上

快速

导航

加热方法

主要分类

抛光浆是一种优质的抛光粘液，也称为液体抛光蜡。适合于自动抛光机上作业使用，通常以高活性油脂、溶剂油及优质抛光微粉科学配比而成，无毒，高效。可分为以下几个系列：自动抛光机专用抛光浆系列：

1.非金属和软金属粗抛抛光浆系列：

该系列为粗抛抛光浆，黄色或灰色浆状物，产品主要用在自动抛光机上，也用于手抛机，对各种铜、铝、铝镁合金、锌合金等各种金属以及塑料、油漆面等非金属进行第一道工序抛光，将工件（一般是粗糙不平的粗坯）由粗糙不平抛到比较平整光亮美观。该系列产品切削力好，抛光后的工件也具有一定的亮度。如客户需进一步抛光，可采用我司的精抛系列对工件进行精抛和镜面抛光。我司这种产品组合的优点:一是减少了抛光工序，传统的抛光工序需进行第三、四道甚至更多的抛光工序；二是提高了客户的工作效率；三是从整体上降低了客户的抛光总成本。

2.软不锈钢等硬质金属粗抛光浆系列：

该系列为中粗抛抛光浆，灰色或白色浆状物，主要针对不锈钢等一些比较硬质的金属进行抛光，主要用于自动抛光机上，也可以用在手抛机上，适合不锈钢、不锈铁、铜、锌合金等比较硬的金属，硬质金属的第一道抛光，切削力好，亮度佳，能将工件抛得在非常平整光亮，如需进一步抛光，可选用我司的精抛系列进行精细抛光。

3.金属和非金属精抛抛光浆系列：

该系列属精细抛抛光浆，产品为黄色、白色、蓝色、绿色或紫色等浆状物，在抛光工序中为第二道工序，也是精抛工序。有各种针对制版行业，钢琴吉它乐器汽车油漆面抛光，铝型材等专用抛光产品。抛光后的工件光泽度高，广泛用在制版、家具、油漆面、塑料、铝铜锌等行业。

4.不锈钢等硬质金属精抛抛光浆系列：

该系列为精抛抛光浆，分白色、绿色或紫色浆状物，也可以称之为镜面抛产品，对所有硬质金属金属进行精抛和镜面抛光。该系列产品的抛光如果配合我司的粗抛抛光浆系列使用，效果极佳，既减少了工序，又降低了材料成本，是客户最佳的产品组合和最理想的抛光材料。

1、清理瓷砖表面，确保瓷砖表面和缝隙都没有灰尘、水渍和其他颗粒杂质。2、在瓷砖表面涂刷一层油性材料，起到防护作用。3、用打磨机打磨瓷砖表面，注意要先粗再细，直到表面光滑平整。4、进行打蜡。

吸水砖不能，通体砖也只能倒角或磨圆后抛光。平面抛光，需大型设备，多道工序，不现实！可以用瓷砖抛光液产品特性：陶瓷、石材专用纳米抛光液由纳米材料、无机材料、聚合物等多种材料为主要成分，采用独特先进工艺生产而成，外观为乳白色。

是企业的重点之重。海德研磨自主研发高精密平面研磨机，专业的工艺研发实验室和10多条研磨抛光加工生产线.。常见的陶瓷材料有氧化铝陶瓷、氧化锆陶瓷、氮化硅陶瓷件、碳化硅陶瓷件、石墨陶瓷件、氮化硼陶瓷等。

利用陶瓷平面抛光机抛光陶瓷的步骤分为粗抛、半精抛和精抛三阶段。

1、粗抛阶段主要借助大粒度磨粒的机械作用将抛光表面的较大凸起快速去除，以实现材料去除率的最大化，缩短抛光时间

2、半精抛阶段采用粒度较小的磨粒将粗加工中未去除的微凸起去除，并获得较好的表面光洁度3

3、精抛阶段则在抛光液和微粉的联合作用下，将抛光表面修正至所需的表面质量要求。

研磨是半导体加工过程中的一项重要工艺， 它主要是应用化学研磨液混配磨料的方式对半导体表面进行精密加工， 这种化学研磨工艺几乎涉及到半导体制程中的各个环节， 研磨液是影响半导体表面质量的重要因素。

对于研磨工件产品，品种多；可选择不同程度效果的氧化铝研磨液，研磨速度快可减省研磨时间，提高生产效率，作业后工件表面比较平滑。

加油或者加水稀释使用，有效，方便，无污染，不腐蚀等特点。其中金刚石颗粒硬度好，粒度均匀，磨削效果好。

用于在蓝宝石衬底的研磨和减薄的研磨液，蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性，在研磨抛光过程中保持高切削的效率，同时不易对工件产生划伤。

（1）切力较稳定，性价比高；

（2）铝为电和热的良导体，而氧化铝则是电与热的绝缘体；

（3）具有良好的研磨稳定效果；

（4）品种多，可以进行粗磨和细磨，视半导体材质而定；

（5）适用作为Inp、GaAs半导体的研磨液。

  分散稳定性不好、易团聚、易沉淀。

（1）金刚石磨料是研磨硬质合金、陶瓷、宝石、光学玻璃等高硬度材料的理想原料；

（2）蓝宝石研磨液是蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、刺头、硬盘、芯片领域的研磨；

（3）不适用于Inp、GaAs。

CMP抛光液( chemical mechanical polishing化学机械抛光，简称CMP)是平坦化精密加工工艺中超细固体研磨材料和化学添加剂的混合物，CMP抛光液一般由提供研磨作用的超细固体粒子如纳米级SiO2、Al2O3粒子等和提供腐蚀溶解作用的表面活性剂、稳定剂、氧化剂等组成。

广泛用于各类集成电路、半导体、蓝宝石、LED行业及其他领域的抛光过程，用来辅助抛光、保护硅片等材料免受划伤，因此在芯片的制备过程中是离不开它的。

①.氧化铝抛光液：晶向稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀；磨削力强、抛光速率快、镜面效果好；抛光液不易沉淀。

②. 氧化硅抛光液：

（1）分散性好。

（2）粒径分布广泛：5-100nm。

（3）适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。

（4）适用硅晶圆、蓝宝石等半导体及衬底材料的粗抛和精抛，抛光后易清洗，表面粗糙度低。

③ 白刚玉抛光液：纯度高、耐酸碱腐蚀、耐高温、热态性能稳定它硬度略高于棕刚玉，韧性稍低，自锐性好、磨削能力强、发热量小、效率高、热稳定性好。

优势在于

（1）氧化铝抛光的抛光速率快、二氧化硅抛光液易清洁。

（2）氧化铝抛光液良好的微粒形状，纯度高、磨削力强，表面粗糙度5-15nm。

（3）二氧化硅抛光液表面粗糙度低，而且抛光后易清洗，适用于二次抛光解决脏污。

（4）如图下氧化铝抛光液结合二氧化硅抛光液的效果图。

劣势在于： 氧化铝抛光液异常多，比如橘皮现象、表面出现白点现象；二氧化硅抛光液抛光过程中易产生结晶，对硬底材料抛光速率低。

白刚玉微粉可用做触媒体，绝缘体以及精密铸造砂等。

不积珪步，无以至千里；不积细流，无以成江海。做好每一份工作，都需要坚持不懈的学习。