拉单晶断线分析原因
1.材料不纯。(包括硅料、气体、真空度、坩埚、装料等等)2、温度、转速、提升速度等是否控制得当。最主要还是材料不纯。断线有很多解决办法的。我很好奇,现在多晶硅行业不是亏本营业吗,还要继续亏下去?
1、材料不纯。(包括硅料、气体、真空度、坩埚、装料等等)2、温度、转速、提升速度等是否控制得当。单晶硅片:硅的单晶体,是一种具有基本完整的点阵结构的晶体。不同的方向具有不同的性质,是一种良好的半导材料。纯度要求达到99.9999%,甚至达到99.9999999%以上。用于制造半导体器件、太阳能电池等。用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成。
在放肩的过程中,温度是持续下降的,而且变化非常大。对温控炉的控制精度要求非常高。
要保证不断,就要保证在温度下降的过程中,不断的调整拉晶的速度。是单晶线的生长速率维持恒定。这是保证不断线的诀窍。
所以单晶硅放肩断线的原因是拉速和温度下降速率不匹配。
一)关于设备 炉体密封性、炉体是否有漏缝、漏水等现象
二)关于热场 热场设计是否合理,尤其是导流筒你需要检查,是否起到了保温的作用;另外检查下加热器的电阻率,是否有老化;还有碳毡是否硬化;
三)关于工艺,这里众多环节因素,控制好温度和温补,保持稳定的生长温度(固液相熔)是至关重要的;
四)关于硅料、装料时是否污染硅料或炉体是否清理干净;
......等等因素,欢迎探讨,谢谢;QQ 277424089
实际晶体的空间点阵和理想的空间点阵不同,它不完全有规则周期排列,而是点阵在排列上有这样或那样不规则性,存在着点阵畸变,偏离空间点阵。那些偏离点阵的结构或地区通称晶体缺陷。
根据缺陷相对晶体尺寸或影响范围大小,可分为以下几类。
1、点缺陷
点缺陷特征是三个方向的尺寸很小,只有几个原子间距,如各种溶质原子引起的周围畸变区;空位,间隙原子以及这几类点担风险的复合体。固溶体中大小(a)和(b)溶质原子引起的点阵畸变示意图(c)图表示原子跑到阵间隙中,这样产生的空位称为弗兰克(Фpehkelb)空位,(d)图表示原子跑掉晶体表面去,这样产生的空位称肖脱基(Schottky)空位。
2、线缺陷
线缺陷特征是缺陷在两个方向上尺寸很小(与点缺陷相似),第三个方向上的尺寸很大,可以贯穿整个晶体,属这一类缺陷主要是位错。位错有三种基本类型:刃型位错、螺型位错、混合位错。
3、面缺陷
面缺陷的特征是一个方向上尺寸很小(相同点缺陷),在其它两个方向上的尺寸很大,晶体的外表面及各种内界面—一般晶界、孪晶界、亚晶界、相晶界以及层错等属于这一类。
4、体缺陷
体缺陷是三堆缺陷,在三个方向上尺寸部较大,不是很大,例如晶体孔晶、漩涡条纹、杂质条纹,包裹体,慢沙(由包裹体组成的层状分子)。
在拉制单晶硅因为生长环境:如温度场、机械传动、杂质浓度等因素都会造成硅片的质量缺陷,具体如何去避免那只能靠相关的经验啦.