铝阳极氧化能达到多少硬度？
变硬的只是铝材外面那层氧化膜，硬度一般在HV300左右，硬质氧化膜（低温氧化膜）我没记错的话可以达到HV500左右。
氧化膜的孔径在100nm~200nm之间，氧化膜厚度10微米左右，孔隙率20%左右，孔距300~500nm之间。氧化膜的截面图表明氧化膜孔基本上是管状结构，氧化膜发生溶膜反应基本上是在孔的底部发生的。
而一般的硫酸直流阳极氧化膜的孔径是20nm左右，如果是12微米的氧化膜，那是多深的细管状结构，假设这是一个直径1m的井，那么它的井深将有600m深。
扩展资料氧化膜的绝大部分优良特性，如抗蚀、耐磨、吸附、绝缘等性能都是由多孔外层的厚度及孔隙率所决定的，然而这两者却与阳极氧化条件密切相关，因此可通过改变阳极化条件来获得满足不同使用要求的膜层。
膜厚是阳极氧化制品一个很主要的性能指针, 其值的大小直接影响着膜层耐蚀、耐磨、绝缘及化学着色能力。在常规的阳极氧化过程中，膜层随着时间的增加而增厚。
在到最大厚度之后，则随着处理时间的延长而逐渐变薄, 有些合金如AI-Mg、AI-Mg-Zn合金表现得特别明显。因此，氧化的时间一般控制在逹最大膜厚时间之内。
参考资料来源： 百度百科-铝阳极氧化
铝氧化膜的硬度与诸多因素有关，如铝材基体材料成分，铝氧化工艺条件等。同基体不同工艺得到的膜层硬度也有差异，硬质氧化工艺更明显。但一般来说，铝阳极氧化膜的硬度比铝基体高得多，基体的硬度为 HV100左右，普通阳极氧化膜的硬度约HV300左右，而硬质阳极氧化膜可达到HV500左右。
铝件自然氧化，表面会产生白色的氧化铝，不严重时对材质硬度影响不大。严重时（即锈蚀很严重）对材质硬度有影响，主要是整体的强度下降，尤其是铸铝类零件。
1、介质温度，其它条件同等的情况下，氧化温度越低，硬度越高，4度左右最佳；
2、电流密度越大，氧化膜越厚，制品表面越硬，耐磨，但过高膜硬度又下降；
3、氧化膜随氧化时间增长而增厚，但太长，膜疏松多孔而膜硬度下降；
4、氧化介质，硫酸氧化介质比其它介质氧化的膜硬度要高；
一、铝合金硬质氧化的优势：1、铝合金硬质氧化后表面硬度最高可达HV500左右。2、氧化膜厚度25-250um。3、附着力强，根据硬质氧化所生成的氧化特点：所生成的氧化膜有50%渗透在铝合金内部，50%附着在铝合金表面（双向生长）。4、绝缘性好：击穿电压可达2000V（完善的封孔）。5、耐磨性能好：对于含铜量未超过2%
的铝合金其最大的磨耗指数为3.5mg/1000转。其他所有的合金磨耗指数不应超过1.5mg/1000转。6、无毒：氧化膜和用来生产阳极氧化膜的电化学工艺应对人体无害。因此很多行业为了减轻产品的重量、机械加工的方便、环保低毒等要求，目前有的部分产品中的部份零部件由铝合金硬质氧化来代替不锈钢、电镀硬铬等工艺。
二、硬质阳极氧化和普通阳极氧化的区别：硬质氧化的氧化膜有50%渗透在铝合金内部，50%附着在铝合金表面，因此硬质氧化后产品外部尺寸变大，内孔变小。
（一）操作条件方面的差异：
1、温度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加剂的可以到30℃，温度过高易出现粉
末或裂纹；硬质氧化一般在5℃以下，相对来说温度越低硬质越高。
2、浓度差异：普通氧化一般20%左右；硬质氧化一般在15%或更低。
3、电流/电压差异：普通氧化电流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬质氧化：1.55A/dm2；普通氧化电压≤18V，硬质氧化有时高达120V。
（二）膜层性能方面的差异：
1、膜层厚度：普通氧化膜层厚度相对较薄；硬质氧化一般膜层厚度>15μm，过低达不到硬度≥300HV的要求。
2、表面状态：普通氧化表面较光滑，而硬质氧化表面较粗糙（微观，和基体表面粗糙度有关）。
3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬质氧化孔隙率低。
4、普通氧化基本是透明膜；硬质氧化由于膜厚，为不透明膜。
5、适用场合不同：普通氧化适用于装饰为主；而硬质氧化以功能为主，一般用于耐磨、耐电的场合。
